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真空鍍膜是在真空中把真空中的鈦，金，金屬（導(dǎo)電：鋁，錫，鎳，不導(dǎo)電：銦，銦鎳合金）石墨，水晶之類的金屬或非金屬，氣體等材料利用濺射，蒸發(fā)，等離子體等技術(shù)，在基材上開成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多的優(yōu)點：如對環(huán)境無污染，是綠色環(huán)保工藝，對操作者無傷害，鍍層牢固，膜層致密性好，均勻抗腐蝕性強及耐磨性高！

真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜（包括電弧蒸發(fā)，電子槍蒸發(fā)，電阻絲蒸發(fā)等）；濺射鍍膜（包括直流磁控濺射，中頻磁濺射，射頻濺射等技術(shù)），這些方法統(tǒng)稱為物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition),簡稱PVD 。

真空蒸鍍法：是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點金屬。 

加熱金屬的方法：有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。 

在對塑料制品實施蒸鍍時，為了確保金屬冷卻時所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時間進行調(diào)整。此外，熔點、沸點太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。 

置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。 

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)原材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。

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